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        離線分光干涉測厚儀的原理及運(yùn)用

        發(fā)布時間:2022-01-04 點(diǎn)擊量:1713

        離線分光干涉測厚儀的原理及運(yùn)用

        適用于光學(xué)薄膜和透明涂層薄膜

        模型飛行時間
        測量方法非接觸式/光譜干涉測量法
        測量對象電子和光學(xué)用透明平滑膜、多層膜
        測量原理光譜干涉儀
        產(chǎn)品特點(diǎn)
        • 實(shí)現(xiàn)高測量重復(fù)性(± 0.01 μm 或更小,取決于對象和測量條件)

        • 不易受溫度變化的影響

        • 可以生產(chǎn)用于研究和檢查的離線式和在制造過程中使用的在線式。

        • 反射型允許從薄膜的一側(cè)進(jìn)行測量

        • 僅可測量透明涂膜層(取決于測量條件)

        產(chǎn)品規(guī)格
        測量厚度1~50μm(薄材料)、10~150μm(厚材料)    
        測量長度50-5000 毫米
        測量間距1 毫米 ~
        最小顯示值0.001微米
        電源電壓AC100 V 50/60 Hz
        工作溫度限制5~45℃(測量時溫度變化1℃以內(nèi))
        濕度35-80%(無冷凝)
        測量區(qū)域φ0.6 毫米
        測量間隙約 30 毫米



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